Codex International propose un service d’oxydation thermique de substrats Si par voie sèche ou voie humide permettant la croissance d'une couche d'oxyde dense et uniforme, de rigidité diélectrique élevée et d'épaisseur de quelques nanomètres à 50 microns.
Certificats d’Analyse
Tous nos matériaux sont analysés avant livraison par spectrométrie à plasma à couplage inductif et sont accompagné [...]
Découpe de substrats
Plusieurs techniques de découpe sont disponibles pour nous adapter à vos besoins et dimensions de dés : découpe par [...]
Nitruration
Notre service de Nituration Si3N4 de wafers Si par LPCVD permet, entre autre, d'obtenir une haute résistance chimique a [...]
