Notre service de Nituration Si3N4 de wafers Si par LPCVD permet, entre autre, d'obtenir une haute résistance chimique aux acides, sels, métaux fondus, une haute résistivité et résistance à l'oxydation jusqu'à 1500°C.
Dépôt à façon
Codex International offre à ses clients la possibilité de métalliser leurs substrats Si en couche simple ou multicouc [...]
Oxydation Thermique
Codex International propose un service d’oxydation thermique de substrats Si par voie sèche ou voie humide permettant [...]
Certificats d’Analyse
Tous nos matériaux sont analysés avant livraison par spectrométrie à plasma à couplage inductif et sont accompagné [...]
