Notre service de Nituration Si3N4 de wafers Si par LPCVD permet, entre autre, d'obtenir une haute résistance chimique aux acides, sels, métaux fondus, une haute résistivité et résistance à l'oxydation jusqu'à 1500°C.
Oxydation Thermique
Codex International propose un service d’oxydation thermique de substrats Si par voie sèche ou voie humide permettant [...]
Nitruration
Notre service de Nituration Si3N4 de wafers Si par LPCVD permet, entre autre, d'obtenir une haute résistance chimique a [...]
Dépôt à façon
Codex International offre à ses clients la possibilité de métalliser leurs substrats Si en couche simple ou multicouc [...]
