Notre service de Nituration Si3N4 de wafers Si par LPCVD permet, entre autre, d'obtenir une haute résistance chimique aux acides, sels, métaux fondus, une haute résistivité et résistance à l'oxydation jusqu'à 1500°C.
Découpe de substrats
Plusieurs techniques de découpe sont disponibles pour nous adapter à vos besoins et dimensions de dés : découpe par [...]
Nitruration
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Certificats d’Analyse
Tous nos matériaux sont analysés avant livraison par spectrométrie à plasma à couplage inductif et sont accompagné [...]
